خط مشی دسترسیدرباره ما
ثبت نامثبت نام
راهنماراهنما
فارسی
ورودورود
صفحه اصلیصفحه اصلی
جستجوی مدارک
تمام متن
منابع دیجیتالی
رکورد قبلیرکورد بعدی
Document Type : Latin Dissertation
Language of Document : English
Record Number : 154641
Doc. No : ET26433
Main Entry : Yan Zhang
Title Proper : ELECTROMIGRATION PHENOMENA IN 0.13 MICRON COPPER INTERCONNECTSET C A L I B ~ RIQUEMENTET C A L I B ~RIQUEMENT.POMPES PAR TRANSITIONS MULTIPLES
Note : This document is digital این مدرک بصورت الکترونیکی می باشد
Abstract : Cu/low-k interconnects have replaced many A1 interconnects recently in IntegratedCircuits with 0.13 pm technology and beyond. These technologies confine many recentfabrication processes, such as Chemical Mechanical Polishing with dual-damasceneCu electrodepositing, new materials and via processes. This thesis focuses on new.
Subject : Electericl tess
: برق
electronic file name : TL50706.pdf
Title and statement of responsibility and : ELECTROMIGRATION PHENOMENA IN 0.13 MICRON COPPER INTERCONNECTSET C A L I B ~ RIQUEMENTET C A L I B ~RIQUEMENT.POMPES PAR TRANSITIONS MULTIPLES [Thesis]
 
 
 
(در صورت عدم وضوح تصویر اینجا را کلیک نمایید)